北京
国家知识产权局信息显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司取得一项名为“背洗单元和涂胶显影装置”的专利，授权公告号CN223819176U，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本实用新型涉及涂胶显影领域，提供一种背洗单元和涂胶显影装置，该背洗单元，包括：刷头、旋转托盘、移动托盘与支架；刷头用于相对于支架移动，具有位于支架内的第一工位和位于支架外的第二工位；支架具有朝向旋转托盘向外的第一开口，和朝向刷头的第二开口；支架用于支撑旋转托盘；旋转托盘固定于支架内侧或顶侧；当旋转托盘处于工作状态时，用于带动晶圆相对于刷头旋转，以清洗晶圆的背面的第一区域；移动托盘位于支架的顶侧，用于吸附晶圆的背面的边缘区域；刷头处于运动状态时，用于相对于晶圆运动，以清洗晶圆的背面的第二区域。该背洗单元用于提升晶圆背面的清洁度和光滑度。
天眼查资料显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司，成立于2002年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本20162.7296万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目329次，财产线索方面有商标信息32条，专利信息651条，此外企业还拥有行政许可67个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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