北京
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国家知识产权局信息显示，启迪原子私人有限公司申请一项名为“基于强化学习的自主生成半导体工艺系统工艺配方的方法”的专利，公开号CN121365577A，申请日期为2025年7月。
专利摘要显示，本发明公开了一种基于强化学习的自主生成半导体工艺系统工艺配方的方法和系统。所述系统包含一个全面的数字孪生体，涵盖各子系统数字孪生体、腔室等离子体数字孪生体和工艺数字孪生体，并采用神经网络模型提升效率。通过将策略神经网络与MCTS相结合，所述系统可以自主实现工艺配方中的优化权衡。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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