北京
国家知识产权局信息显示，瑞普赛化学（黄冈）有限公司申请一项名为“一种用于正性光刻胶的剥离液组合物及其制备方法”的专利，公开号CN121348677A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明涉及液晶面板生产技术领域，具体涉及一种用于正性光刻胶的剥离液组合物及其制备方法。本发明的正性光刻胶剥离液组合物，其原料组分包括醇胺溶剂、极性溶剂、金属腐蚀抑制剂；还包括二氧化碳吸附剂、除氧剂，以抑制药液在生产、运输以及使用过程中与空气接触导致的胺降解，提高药液的寿命即处理基板的枚数；还包括金属离子螯合剂，通过金属离子螯合剂与金属离子的强结合作用，使金属离子进入到螯合剂内部，形成稳定的可溶性化合物，阻止金属离子对胺氧化降解的催化作用。本发明的剥离液组合物，在生产、运输以及使用过程中醇胺的稳定性更好，即醇胺的下降速率更慢，以使药液的寿命更高，可处理基板的枚数更多。
天眼查资料显示，瑞普赛化学（黄冈）有限公司，成立于2023年，位于黄冈市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，瑞普赛化学（黄冈）有限公司参与招投标项目4次，专利信息2条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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