北京
分享至
国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“确定光刻设备上的基准劣化的方法”的专利，公开号CN121359089A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，公开了一种确定光刻设备上的基准劣化的方法，所述方法包括：从所述光刻设备的测量侧获得第一基准度量数据；从所述光刻设备的曝光侧获得第二基准度量数据；确定描述所述第一基准度量数据与所述第二基准度量数据之间的相关性的相关性度量；以及确定基准是否已经从所述相关性度量劣化。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
