北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“预测电磁系统对照射电磁辐射的响应的方法”的专利，公开号CN121336148A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，一种预测电磁系统对来自照射配置的电磁辐射的响应的计算机实现的方法。系统包括位于辐射路径中的像差元件和辐射路径上的物体平面处的与电磁辐射相互作用的物体，像差元件引起对沿着辐射路径透射的电磁辐射的、由像差函数描述的像差。方法包括各种步骤。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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