北京
国家知识产权局信息显示，上海致领半导体科技发展有限公司申请一项名为“抛光性能评价方法、装置及提升抛光性能的抛光系统”的专利，公开号CN121315816A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明涉及抛光性能评价方法、装置及提升抛光性能的抛光系统，抛光性能评价方法包括获取抛光盘的所有磨粒的轨迹长度；基于所有磨粒的轨迹长度，计算获得轨迹平均值和方差；基于轨迹平均值和方差，计算获得轨迹分布均匀性。其优点在于，利用抛光盘单元的转动运动和抛光垫单元的直线运动相结合，可以提高晶圆抛光的均匀性，缩短抛光时间，提高抛光效率；利用抛光盘单元的转动运动和抛光垫单元的直线运动相结合，可以避免抛光垫单元磨损不均匀，提高抛光垫单元的使用寿命，降低成本。
天眼查资料显示，上海致领半导体科技发展有限公司，成立于2011年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本4750.4762万人民币。通过天眼查大数据分析，上海致领半导体科技发展有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目32次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息81条，此外企业还拥有行政许可1个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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