北京
分享至
国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于控制光刻设备的方法和相关设备”的专利，公开号CN121325521A，申请日期为2018年11月。
专利摘要显示，公开了一种用于控制光刻设备的方法以及相关设备。该方法被配置为在光刻过程中向衬底提供产品结构，并且包括确定优化数据。优化数据包括至少一个性能参数的被测量的数据和/或被模拟的数据，该至少一个性能参数与将要在光刻过程中施加到衬底上的产品结构和/或其布置相关联。在向所述衬底提供产品结构之前确定被测量的和/或被模型化的特定于衬底的量测数据，所述特定于衬底的量测数据包括与正被施加结构的所述衬底的特性和/或在所述结构被施加到所述衬底上时所述光刻设备的状态有关的量测数据。该方法还包括基于所述优化数据和所述特定于衬底的量测数据，在所述光刻过程期间优化对所述光刻设备的控制。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
