北京
国家知识产权局信息显示，浙江众凌科技有限公司申请一项名为“金属掩膜版的蚀刻方法”的专利，公开号CN121295180A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请提供了一种金属掩膜版的蚀刻方法，用于在基材的第一表面形成大孔，具体步骤包括：在基材的第一表面形成第一开口，在第一开口的表面形成厚度逐渐变化的氧化膜，对第一开口进行蚀刻，以形成大孔，大孔的开口角度在40°~65°范围内。本申请中通过形成厚度逐渐变化的氧化膜，实现了对侧壁蚀刻轮廓的主动与精确控制，以在金属掩膜版的第一表面形成具有极高的蚀刻因子与垂直度的大孔，打孔的侧蚀量减少，蚀刻因子大幅度提升，大孔的开口角度在40°~65°范围内。另外，采用本申请的技术方案，提升蚀刻因子后，显著提升了高解析度金属掩模版的抗折伤能力，降低因折伤导致的生产不良。
天眼查资料显示，浙江众凌科技有限公司，成立于2020年，位于嘉兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本19274.5738万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江众凌科技有限公司参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息70条，此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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