国家知识产权局信息显示,上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种具有多层波导结构的层间耦合器及其制造方法”的专利,公开号CN121299839A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本申请涉及耦合器件设计与制造技术领域,具体涉及一种具有多层波导结构的层间耦合器及其制造方法。该层间耦合器包括至少三层堆叠设置的波导结构,其中,最下层的所述波导结构为硅波导,从下往上,各层所述波导结构的折射率逐步降低。通过将层叠设置的各层波导结构的折射率设置为逐步降低趋势,能够使光信号在不同波导层间传输时更平稳地过渡,有效避免因折射率急剧变化而产生的反射和散射现象,从而极大地减少了因折射率突变所引发的光损耗,显著降低了该层间耦合器的耦合损耗,大幅提高其光传输效率。还能够有效改善模场匹配程度,解决模场失配问题,进一步降低光场的耦合损耗。
天眼查资料显示,上海新微技术研发中心有限公司,成立于2013年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析,上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业,参与招投标项目485次,财产线索方面有商标信息52条,专利信息814条,此外企业还拥有行政许可46个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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