北京
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国家知识产权局信息显示，同方威视技术股份有限公司申请一项名为“检测方法和装置、及辐射扫描检测设备”的专利，公开号CN121299788A，申请日期为2025年8月。
专利摘要显示，本公开提供了一种检测方法，所述方法包括：获取待测物体的辐射扫描图像，将待测物体的辐射扫描图像作为待测样品；将所述待测样品与标准库中的多个标准物体的辐射扫描图像进行匹配，将匹配度最高的一个标准物体的辐射扫描图像作为标准样品，其中，所述标准库是预先构建的，所述标准库中预先存储有多个标准物体的辐射扫描图像；将所述待测样品与所述标准样品进行配准；将经过配准后的所述待测样品与所述标准样品进行减影计算，得到异物区域的掩膜；以及基于所述异物区域的掩膜，识别所述待测物体中的异物。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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