上海
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近日，湖北三峡实验室重大科技成果“光刻胶用光引发剂制备专有技术及实验设备所有权”，被湖北兴福电子以4626.78万元收购，即将投入生产。这一突破将有效缓解我国芯片制造领域又一“卡脖子”难题，推动光刻胶产业自主可控。
在芯片制造过程中，光刻胶如同相机的“底片”，而此次转让的成果G/I线光刻胶用光引发剂的关键技术，则能决定光刻胶的感光度和分辨率。
据湖北三峡实验室光刻胶用光引发剂项目负责人、博士周钢翔介绍，主要面向我们国内成熟制程、芯片制造以及面板制造行业，像国内目前的新能源汽车发展迅速，有大量的芯片都需要用到我们G/I线光刻胶，目前这款产品在国内的配方国产化率也是最高的。
近年来，由于进口光引发剂不时面临限购和断供，国内多家光刻胶生产企业生产受阻。在湖北，主攻芯片蚀刻电子级磷酸、电子级硫酸等产品的兴福电子公司，此前就想切入这一产业赛道，却苦于从零研发的高风险不敢贸然行动，于是向以微电子新材料为主要研究方向的三峡实验室提出研发需求。
企查查数据显示，截至1月12日，国内光刻胶相关现存企业达1040家，截至目前，国内光刻胶相关专利达1.73万项。
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