北京
国家知识产权局信息显示，晶格（苏州）真空技术有限公司取得一项名为“一种半导体真空腔漏气监测装置”的专利，授权公告号CN223783833U，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种半导体真空腔漏气监测装置，涉及半导体技术领域，该真空腔漏气监测装置，包括真空腔体和工艺腔体，所述真空腔体位于工艺腔体的一侧，所述真空腔体的底部安装有真空泵；还包括：第一输送管，其安装在真空腔体靠近工艺腔体的一侧，所述工艺腔体靠近真空腔体的一侧设置有第二输送管，固定套板对两个连接法兰进行连接固定，同时在固定套板的内壁设置超声波模块，利用气体流动产生的超声波信号进行监测，能够准确的捕捉到漏气的信号，并且在固定套板的外侧设置指示灯，当某一处产生泄漏时，超声波模块会使对应位置的指示灯闪烁，使得工作人员在进行维修检查的时候能够快速的找到漏气点进行维修。
天眼查资料显示，晶格（苏州）真空技术有限公司，成立于2021年，位于苏州市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，晶格（苏州）真空技术有限公司专利信息10条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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