北京
国家知识产权局信息显示，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司申请一项名为“光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质、计算机程序”的专利，公开号CN121276877A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质、计算机程序，方法包括：提供初始版图，初始版图包括多个间隔相邻设置的金属线图形以及分布于金属线图形中的互连通孔图形；基于光刻工艺支持的临界间距，获取金属线图形的最大移动距离和移动方向；基于最大移动距离，对互连通孔图形的尺寸进行第一缩放处理，形成基准图形；沿着移动方向，将金属线图形移动至基准图形的边界相齐平，且基准图形分布于金属线图形中。让互连通孔图形仅需要移动一次即可使相邻金属线图形之间的间距满足光刻过程中的曝光工艺窗口，从而减少了对金属线图形进行光学邻近修正的步骤，进而提高了光学邻近修正效率，降低生产成本。
天眼查资料显示，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本244000万美元。通过天眼查大数据分析，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目128次，财产线索方面有商标信息150条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可446个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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