北京
国家知识产权局信息显示，北京阿法龙科技有限公司申请一项名为“基于碳化硅衬底的连续深度渐变的光栅结构及其制备方法”的专利，公开号CN121276675A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明提供了一种基于碳化硅衬底的连续深度渐变的光栅结构及其制备方法，该制备方法包括以下步骤：在碳化硅衬底上形成厚度渐变的牺牲层；采用两步等离子刻蚀工艺进行刻蚀；通过等离子体抛光工艺将表面进行抛光。本发明通过渐变牺牲层与两步等离子刻蚀结合，在碳化硅衬底上实现高精度连续深度渐变的光栅结构，以匹配RGB三色波长的衍射需求；消除了刻蚀过程中的微沟槽缺陷，解决了传统工艺无法兼顾深宽比和表面质量的难题，为单层全彩光波导量产提供了关键技术支撑；通过控制表面粗糙度，降低光波导传输损耗；而且产品良率得到提升，生产成本降低，适合大规模生产。
天眼查资料显示，北京阿法龙科技有限公司，成立于2017年，位于北京市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1111万人民币。通过天眼查大数据分析，北京阿法龙科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目14次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息27条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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