北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“绘制衬底表面的高度的方法以及用于该方法的设备”的专利，公开号CN121263748A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，一种绘制衬底表面的高度的设备和方法。该方法包括：控制移动机构以产生辐射束的多个测量斑点在衬底表面上的测量位置的单行程移动，衬底由不可旋转的衬底台支撑，其中移动在衬底的平面内进行，多个测量斑点通过用于绘制衬底的高度的水平传感器而入射到所述衬底表面上，并且所述行程遵循曲线路径来绘制所述衬底的整个表面。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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