北京
国家知识产权局信息显示，浙江华创光电材料有限公司申请一项名为“低配向角基膜的制造设备、制造方法及偏光片离型膜基膜”的专利，公开号CN121246216A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本申请公开了一种低配向角基膜的制造设备，该制造设备包括纵向拉伸系统、第一横向拉伸系统、换向系统、第二横向拉伸系统及后处理系统；纵向拉伸系统用于对基膜进行纵向拉伸；第一横向拉伸系统用于对基膜进行沿第一方向的第一横向拉伸；换向系统用于使基膜沿与第一方向相反的第二方向运行；第二横向拉伸系统用于对基膜进行沿第二方向的第二横向拉伸；后处理系统用于对经第二横向拉伸处理后的基膜进行后处理。本申请还公开了一种制造方法及偏光片离型膜基膜。本申请中通过设置两次运行方向相反的横向拉伸处理，使两次横向拉伸中产生的弓形分子排布情况相互抵消以消减配向角，使基膜能够满足相应的配向角要求。
天眼查资料显示，浙江华创光电材料有限公司，成立于2021年，位于台州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本30000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江华创光电材料有限公司参与招投标项目6次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息7条，此外企业还拥有行政许可20个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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