北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于预测全芯片应用的显影后随机效应的方法和系统”的专利，公开号CN121263742A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，本文中描述一种用于模拟光刻过程中的随机效应的方法和系统。获得图案区域的图像，并且基于在所述图案区域的每个部位处的图像强度来确定在相对应的部位处的光子概率分布（PD）。基于所述光子PD来确定所述图案区域的显影后图像的失效概率图。所述失效概率图是使得能够确定所述图案区域的任何部位处的失效概率（例如，色调翻转概率）的连续图。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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