北京
国家知识产权局信息显示，华勤技术股份有限公司申请一项名为“基于HK效应的显示优化方法、控制单元及头戴显示设备”的专利，公开号CN121254509A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请提供一种基于HK效应的显示优化方法、控制单元及头戴显示设备，应用于近眼光学成像技术领域。显示优化方法包括：获取用户的实时眼动数据，实时眼动数据包括瞳孔尺寸和注视区域；确定待优化虚拟图像在注视区域的色彩特征，色彩特征包括图像色度、图像色相角和图像亮度；基于HK效应模型，根据瞳孔尺寸和色彩特征，确定用户在注视区域的感知亮度；若根据感知亮度，确定进行HK效应亮度补偿，则基于感知亮度和瞳孔尺寸，确定针对注视区域的HK效应亮度补偿量；根据HK效应亮度补偿量，控制光学显示单元生成并显示优化后的虚拟图像。本申请提高虚拟内容与真实环境的融合效果，满足用户在多样化和动态环境下的高标准视觉体验需求。
天眼查资料显示，华勤技术股份有限公司，成立于2005年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本101573.2344万人民币。通过天眼查大数据分析，华勤技术股份有限公司共对外投资了26家企业，参与招投标项目19次，财产线索方面有商标信息52条，专利信息1827条，此外企业还拥有行政许可81个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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