北京
国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司申请一项名为“掩模图形的优化方法、介质、产品及设备”的专利，公开号CN121254557A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明提供了一种掩模图形的优化方法、介质、产品及设备。其中上述方法包括：获取待修正掩模图形及其对应的理想光刻图形；调用反演光刻工具中的人工智能模型根据待修正掩模图形生成光刻仿真结果；根据光刻仿真结果和理想光刻图形计算得到代价值；利用反演光刻算法基于代价值对待修正掩模图形进行修正，得到修正掩模图形；将修正掩模图形作为待修正掩模图形重复执行调用反演光刻工具中的人工智能模型根据待修正掩模图形生成光刻仿真结果的步骤，直至符合预先设定的循环结束条件，从而得到优化后的掩模图形。通过此方法可以使得反演光刻工具高度适配对应厂商的OPC工具，从而有效提升坏点区域的工艺窗口，为技术节点整体良率的提升奠定坚实基础。
天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本36401.6097万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目23次，财产线索方面有商标信息162条，专利信息384条，此外企业还拥有行政许可18个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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