北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“使用强化学习来确定光学系统的最优对准”的专利，公开号CN121263747A，申请日期为2024年3月。
专利摘要显示，对光刻设备、量测设备和/或其他设备的光学系统的校正和/或其他调整通常基于来自先前制造和/或量测操作的信息、所述光刻和/或量测系统和/或过程的用户经验、基础光学物理原理和/或其他信息。有利地，本系统和方法使用强化学习来优化数十、数百、数千或数百万个光学系统部件的对准（以及关联设置和/或其他特性），并且进行校正和/或其他调整，以优化调整和/或处理时间和/或成本。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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