北京
国家知识产权局信息显示，苏州伊赛仑特电子科技有限公司取得一项名为“高效率半导体芯片等离子清洗设备”的专利，授权公告号CN223733444U，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本实用新型涉及等离子清洗技术领域，公开了高效率半导体芯片等离子清洗设备，包括底板，所述底板的顶部固定连接有固定座，所述固定座的顶部固定连接有电机一，所述电机一的驱动端固定连接有转动板，所述转动板的右侧转动连接有推动杆，所述固定座的左侧转动连接有限位板，所述底板的顶部开设有滑槽，所述滑槽的内部滑动连接有半导体芯片，所述底板的顶部设置有用于运输所述半导体芯片的运输组件，所述底板的顶部设置有用于清洗所述半导体芯片的清洗组件。本实用新型中，通过开启电机一的转动带动推动杆产生规律的推料动作，将芯片的规律精准推送，减少上料位置不准确引发的清洗不均匀导致重复清洗的问题，提高清洗效率。
天眼查资料显示，苏州伊赛仑特电子科技有限公司，成立于2012年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州伊赛仑特电子科技有限公司参与招投标项目4次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息11条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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