北京
国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种基于去离子水的解键合方法和设备”的专利，公开号CN121237664A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本申请涉及半导体制造和光学元件加工技术领域，尤其涉及一种基于去离子水的解键合方法和设备，所述方法包括：去除键合件表面的残留颗粒和残留液体；将键合件浸入去离子水，使去离子水渗入键合界面；在去离子水渗透键合界面后，用工具分离上基材和下基材。本申请通过促使去离子水渗透键合界面存在的微间隙，破坏键合界面分子间作用力，避免键合界面电化学腐蚀或高温损伤，降低对基材的机械损伤，提升解键合后基材的回收利用率。
天眼查资料显示，上海新微技术研发中心有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目484次，财产线索方面有商标信息52条，专利信息803条，此外企业还拥有行政许可46个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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