北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于测量对象的表面的形貌的方法和装置”的专利，公开号CN121241310A，申请日期为2024年4月。
专利摘要显示，一种用于确定针对衬底的高度轮廓的校正的方法，包括：将衬底固定到衬底保持器；获取第一高度轮廓的第一测量值；将衬底绕表面的全局法线旋转；获取第二高度轮廓的第二测量值；针对衬底保持器的形状，校正第一测量值和第二测量值，以分别确定第一经校正测量值和第二经校正测量值；以及组合第一经校正测量值和第二经校正测量值，以确定针对高度轮廓的校正。获取第一高度轮廓的第一测量值和第二测量值各自包括：将图案化的辐射束投射到束斑区域上；在衬底处于当前取向时，相对于束斑区域移动衬底；接收从衬底反射的图案化的辐射束的一部分并且由此确定第一高度轮廓的第一测量值。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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