北京
国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“偏光片及显示装置”的专利，公开号CN121208995A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本申请涉及一种偏光片及显示装置。偏光片包括基底层和遮光层，基底层包括多个第一区块和多个第二区块，第一区块包括多个沿第一方向延伸的凸起，第二区块包括多个沿第二方向延伸的凸起，相邻的两个凸起之间形成凹槽；遮光层设置于凸起的顶壁和/或凹槽的底壁，遮光层的透光率小于基底层的透光率。本申请实施例中，当光线入射至第一偏光区时，与第一方向相垂直的偏振方向上的光线会被遮光层阻挡，而偏振方向平行于第一方向的光线可以透过；当光线入射至第二偏光区时，与第二方向相垂直的偏振方向上的光线会被遮光层阻挡，而偏振方向平行于第二方向的光线可以透过，从而使偏光片在第一偏光区和第二偏光区的吸收轴方向不同。
天眼查资料显示，武汉华星光电技术有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目676次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可263个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
