北京
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国家知识产权局信息显示，科磊股份有限公司申请一项名为“处理在极紫外光掩模上所检测到的缺陷”的专利，公开号CN121209201A，申请日期为2019年9月。
专利摘要显示，本发明涉及处理在极紫外光掩模上所检测到的缺陷。本发明提供用于光掩模缺陷处理的方法及系统。一种方法包含将能量引导到光掩模并从所述光掩模检测能量。所述光掩模经配置以供在一或多个极紫外光波长处使用。所述方法还包含基于所述所检测能量而检测所述光掩模上的缺陷。另外，所述方法包含在所述所检测缺陷的位置处产生所述光掩模的带电粒子束图像。所述方法进一步包含基于针对所述所检测缺陷产生的所述带电粒子束图像而处理所述所检测缺陷。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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