北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“用于双镶嵌结构的平板印刷工艺”的专利，公开号CN121209209A，申请日期为2025年6月。
专利摘要显示，本公开的实施方式包括用于制造双镶嵌结构的装置和方法。光刻胶第一区域内的第一部分暴露于来自辐射源的第一剂量的电磁辐射。所述第一部分具有第一深度和第一表面积。所述光刻胶的所述第一区域内的第二部分则暴露于来自所述辐射源的第二剂量的电磁辐射。所述第二部分具有第二深度和第二表面积，所述第一部分的所述第一表面积皆位于所述第二部分的某一个第二表面积内。所述光刻胶的第二区域内的第三部分则暴露于来自所述辐射源的所述第一剂量的所述电磁辐射。所述第三部分具有所述第一深度和所述第一表面积。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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