国家知识产权局信息显示,苏州信越半导体有限公司申请一项名为“一种二类超晶格分子束外延表面异常的解决方法”的专利,公开号CN121046959A,申请日期为2025年8月。专利摘要显示,本发明涉及一种二类超晶格分子束外延表面异常的解决方法,所述解决方法包括:S1、确定表面异常的种类;S2、根据表面异常的种类,调整As源炉、Sb源炉、Ga源炉、In源炉以及Al源炉的工艺参数,并在外延生长前进行Sb饱和与As饱和。上述解决方法完成后,按照常规的二类超晶格分子束外延生长的方法进行GaSb脱氧、高温GaSb缓冲层生长、InAs/GaSb二类超晶格生长与低温GaSb生长,最终得到的外延片的缺陷密度在400/cm。
天眼查资料显示,苏州信越半导体有限公司,成立于2021年,位于苏州市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本6007.5386万人民币。通过天眼查大数据分析,苏州信越半导体有限公司共对外投资了3家企业,参与招投标项目3次,财产线索方面有商标信息11条,专利信息20条,此外企业还拥有行政许可12个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.