北京
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国家知识产权局信息显示，默克专利股份有限公司申请一项名为“具有高双折射率的反应性介晶”的专利，公开号CN121039252A，申请日期为2024年3月。专利摘要显示，本发明涉及具有高双折射率及低吸收的反应性介晶(RM)、包括该RM(作为液晶材料的子类)的RM混合物及配制剂、由这样的RM及RM混合物获得的聚合物及聚合物膜，以及该RM、RM混合物、配制剂、聚合物及聚合物膜在光学或电光学组件或装置中的用途，该用途尤其是用于数字光学或增强现实或虚拟现实(AR/VR)应用，如偏振器、光学补偿器、反射膜、衍射或表面光栅、布拉格偏振光栅(布拉格PG)、偏振体积光栅(PVG)、偏振体积全息图(PVH)、潘查拉特纳姆‑贝里(PB)光栅、光波导、镜片或PB镜片。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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