北京
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国家知识产权局信息显示，沃特世科技公司申请一项名为“使用其中液相色谱系统和色谱柱的内部金属表面已用惰性材料层修饰的LC系统和柱改善对低聚糖的分析”的专利，公开号CN121038869A，申请日期为2024年3月。
专利摘要显示，本公开涉及使用连接到包括经涂覆的流动路径的液相色谱系统的亲水性相互作用液相色谱(HILIC)柱从样品分离具有为6或更高的聚合度的一种或多种未经修饰的低聚糖的方法。本文所公开的方法尤其需要一种液相色谱系统，其中该LC系统的至少一个部件包括流体接触烷基甲硅烷基涂层。当实现标准HILIC方法时，本技术的方法可用于降低分离的分析物损失和/或遗留，从而改善分析。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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