北京
国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司、ASML荷兰公司申请一项名为“用于评估投射镜头的像差的测量值的方法”的专利，公开号CN121039565A，申请日期为2024年4月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于评估微光刻投射曝光设备（10）的投射镜头（22）的至少一个像差的测量值（50）的方法。测量值已在投射镜头的场平面中的多个场点（52）处确定，其中投射镜头包括用于引导曝光辐射（14）的多个光学元件（E1-E4）并且包括操纵器系统（M1-M4），通过该操纵器系统，至少一个光学元件可在至少一个自由度（68）上操纵，以移动刚体。该方法包括以下步骤：提供拟合函数（62），该拟合函数包括多项式函数（64）和另外的项（66），该多项式函数取决于定义场平面的空间坐标的形式的两个变量，其中另外的项包括场平面中多个位置的刚体灵敏度（70），每个刚体灵敏度描述至少一个像差（63）对相关位置处的自由度（68）的依赖性，该自由度能够由操纵器系统控制；以及通过将拟合函数拟合到确定的测量值，将在多个场点（52）处确定的测量值（50）外推到投射镜头的另一场点（56）。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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