日本紧张了？中国攻克光刻机最后关卡，日媒：我们愿意卖了

中国自研光刻机，卡在光刻胶这道关上。

它直接决定芯片精度，是制造环节的关键材料。全球九成光刻胶产自日本。

最近，日本经产省把42家中国实体列入出口管制清单，光刻胶赫然在列，断供风险骤升。

关键时刻，国产替代能否顶上？

光刻胶是一种遇光变硬的感光材料，原理类似传统胶卷曝光。最早可追溯到法国人约瑟夫·涅普斯——他偶然发现天然沥青经光照后会固化，便将其用在了早期相机的暗盒中。

起初，美、德、英、韩都涉足这一领域。但日本持续投入研发，产品逐步领先，最终牢牢攥住核心技术，并对配方和工艺严密封锁。

如今，全球70%到90%的光刻胶产自日本。我国超九成依赖进口，主要来源正是日本。

2021年，日本以产能紧张为由，断供中企光刻胶，直接拖慢我国芯片研发进程。一边是高速扩张的半导体产业，一边是日方卡脖子，国内只能高价抢购，长期受制于人。

这招并不新鲜——2019年，日本对韩国也来过一回，光刻胶断供持续四年，三星等企业损失惨重。

长期以来，光刻胶核心技术被日本牢牢攥在手里，配方和工艺高度保密。全球70%到90%的市场由日本占据，而中国超九成用量依赖进口，主要来源正是日本。

这事一出，全球警觉：日本掌控光刻胶命脉，能卡韩国脖子，也能卡别人。供应链风险，瞬间摆在台面上。

转机出现在去年——中国自研的T150A光刻胶通过半导体产线验证，从配方到生产全线自主。性能对标国际KrF产品，极限分辨率达120纳米，部分指标甚至更优。

这意味着，光刻胶不再“看人脸色”。T150A量产，打破了多年封锁，为中国芯片产业链补上关键一环。

日本若想靠断供卡我们脖子，注定行不通。

这些年，中国已从跟跑转向领跑，在多个赛道实现关键突破。这并非偶然——从对话式AI超越DeepSeek，到航空、新能源、高铁加速突围，再到防脱护发技术自立，每一步都在重写竞争格局。

就像日本卡光刻胶，西方防脱品牌也靠专利筑墙。

欧美日在精密化工、生物纳米等领域虽领先数十年，但近年创新明显减速。与此同时，中国正从头皮健康这类“微战场”切入，靠纳米技术悄然反超。

看到中国在高压封锁下仍能突破技术壁垒，韩国政府加大了对本土半导体研发的支持。在日本施压的背景下，韩企反而加速取得了实质性进展。

韩国加速本土材料量产，成本压下来了，对外依赖也大幅降低。随着对日采购持续减少，日本最终在2023年3月撤回了此前的出口管制。这一举动暴露了自身的狭隘：以为自家产品无可替代。但现实很快打了脸。

商业的根本是信誉。靠打压和抬价搞垄断，在国际市场行不通。如今多国纷纷布局光刻胶产能，日本昔日的优势正迅速缩水，前景难言乐观。