ASML也猝不及防！美企推出全新光刻机，竞争加剧了

近几年，美方为扩大芯片限制，不断督促荷兰和日本也实施出口管制，目的就是要扩大光刻机对华出口限制。原因就是自己光刻机产业没落，日本、荷兰陆续崛起超越。

如今，美方想要大力提升本土晶圆制造能力，才发现自己能够生产光刻机的重要性。近日有消息传来，美方新创光刻机厂商开发出了全新光刻机，令ASML也猝不及防！

我们都知道，美方在半导体的很多方面都很领先，但现在能生产芯片制造用的光刻机仅有3个国家4个企业，分别是荷兰、日本和我国，美方已经没有生产光刻机能力。

然而，最早的光刻机巨头却是美企，只不过后来被日本光刻机企业超越，逐步没落了。

上世纪80年代，日本不仅在芯片上一举超过了美方，日本的尼康和佳能也成了“光刻机双雄”。后来虽然美方把日本芯片产业制裁到没落，但日本光刻机产业还在继续。

不过，这也在美方心早留下了阴影，以至于后来力推荷兰ASML、打压日本尼康佳能。

日本的尼康和佳能虽然光刻机又领先了一段时间，但在干湿技术竞争上彻底失算，让荷兰ASML一举实现了超越，凭借浸没式DUV光刻机，一举成为新的光刻机霸主。

再后来，美企英特尔牵头成立的联盟组织研发出了EUV技术，ASML和尼康都申请加入研发，但美方拒绝了尼康加入，让ASML独享技术，又成了EUV光刻机巨头。

如今，荷兰企业ASML成了全球光刻机巨头，占据了全球大部分光刻机市场，EUV光刻机更是独家垄断。日本尼康和佳能虽然还在继续，但主要从事中低端光刻机了。

目前7nm及以下先进制程芯片制程都要用ASML的EUV光刻机，再往下的埃米级制程则要用ASML的新一代High NA EUV光刻机，不过这些EUV的价格却很高昂。

ASML的一般EUV光刻机一台售价约1.5亿美元，High NA EUV更是高达4亿美元。

这也是美方新创光刻设备厂商Substrate要研发全新光刻机的原因之一，Substrate认为ASML的EUV需要一整套复杂的系统，导致光刻机和晶圆制造成本持续飙升。

为了实现芯片制造成本的大幅降低，Substrate想要发明一种新光刻技术，能够生产当前先进芯片所需的关键图案，同时这种技术成本更低、更简单、制造速度也更快。

于是，美企Substrate研发了X射线作为光源的光刻机，波长比新EUV的光源更短。

据了解，Substrate的X射线光源利用粒子加速器产生，波长介于0.01nm到10nm之间，能大幅提升分辨率，甚至不需要光掩模就能直接在硅片上刻画所需精细图案。

Substrate想以比竞争对手更低的成本生产设备，来大幅降低尖端制程芯片制造成本。

如今，建造先进制程晶圆厂的成本超过150亿美元，台积电制造先进制程芯片需耗资数十亿美元，这对英特尔、三星等一直是个挑战，所以他们也急需降低制造成本。

Substrate方面表示，美方发明了现代半导体所有基础技术，包括晶圆管、集成电路、光刻技术、EUV技术等，但过去10年美方失去了半导体生产和供应链领先地位。

尤其是先进光刻机技术是美方的最大失误之一，美方研发出了EUV光刻机技术，但并没有自己去应用生产，反而技术被转移到国外并获得认可，导致国外光刻机领先。

Substrate就是要利用新光刻技术建下一代晶圆厂，让美方重返半导体制造主导地位。

对此，有外媒直接表示，光刻机竞争加剧了！荷兰ASML恐怕也没有料到，连美企都要跟自己竞争，挑战自己的光刻机霸主地位，看来ASML的竞争对手越来越多了。

虽然美企Substrate研发的X射线波长很短、能降低生产成本，但X射线光刻技术并不是一项新技术，俄罗斯和我们都有研究，但因为效率问题，目前主要用于实验。

美企Substrate想要投入使用，还需要解决一系列难题，能不能尽快投入使用不好说。