上海
导读：①市场整体转强，沪指创新高、创业板大涨超 3.5%，量能能否持续放大决定反弹延续性；②存储芯片板块全线反弹，多股涨停，行业价格上涨周期延续，但需留意短线个股分歧风险；③光刻胶领域获技术突破利好，叠加国产化推进，存在反复活跃空间；④算力硬件方向走强，龙头股创新高、业绩预增，但核心标的面临前高压力，需关注能否放量突破。
上周五市场震荡走强，沪指刷新年内新高，创业板更是涨超3.5%，短线再现转强信号。叠加周末消息面整体偏暖，后续仍有进一步冲高之动能，量能能否持续放大或将较大程度决定本轮反弹延续性。
科技股方向上周五全线反弹，其中存储芯片涨幅居前，普冉股份、香农芯创20余股涨停或涨超10%。三星电子与SK海力士已在第四季度将其DRAM和NAND闪存的价格上调最高达30%，并将新的价格体系传导至客户。此举是内存巨头对当前市场供需失衡的直接回应，价格上涨周期仍在延续。
而美光科技等海外存储巨头也于近期持续创下新高。故在产业预期依旧向好以及海外巨头的映射效应的共振推动下，存储芯片相关概念股走出了极强的延续性。但需注意的是，本轮存储芯片行情在反复演绎后相关个股的位阶已然不低，在上周五集体放量拉升后，短线或再度趋于高潮，留意板块内部个股分歧加剧的可能性。
另一方面，光刻胶领域周末再传利好。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。光刻胶是光刻过程最重要的耗材，长期被东京应化、信越化学、JSR、富士胶片等国际巨头垄断。近年来，随着我国加快半导体国产化步伐，产业链上下游多个环节实现技术的重大突破。故在消息催化下，该方向仍存在反复活跃之空间。
算力硬件方向再度走强，生益电子20CM涨停，其前三季度净利同比预增476%-519%。再度印证了海外算力链业绩依旧维持高增态势。光模块龙头中际旭创大涨12%再度刷新历史高点，总市值逼近5500亿。算力硬件对于市场整体仍具较高的带动性，并与短线情绪形成共振。不过需注意的是，多数核心标的在经历了连续的反弹后已来至至前高压力区附近，后续能否进一步放量突破仍是后市的观盘重点。
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