中国做8nm技术是绝对可能的，中国不能一直被荷兰ASML牵着鼻子走

台积电前研发处长：中国做8nm技术是绝对可能的，中国不可能一直被荷兰ASML牵着鼻子走！

你好，我是探客。

中国光刻机到底行不行？

台积电前研发处长杨光磊最近说了句话，挺有意思。

他说，中国做出8nm光刻机技术上是“绝对可能”的，但是，良品率还要打个问号。

这话听起来挺客观，但背后信息量其实很大。

杨光磊什么人？

台积电前研发处长，真正在一线搞过技术攻关的人。

他说“能做”，那就意味着从原理上、从技术路径上，中国已经摸到门道了。

光刻机这东西，被称为“芯片工业的珠穆朗玛峰”，一直被荷兰ASML牵着鼻子走。

现在有业内人士说我们能爬得上去，不管怎么说，这是个信号，中国人认准的事，是真的能一步一步做出来的。

8nm是什么概念呢？

这么说吧，目前能量产这个精度芯片的，全球也就台积电、三星那么两三家而已。

如果我们真的能做出来，就意味着中国在最核心、最卡脖子的装备领域撕开了一个大口子。

但问题恰恰出在杨光磊后半句话：“良品率有多少还是个疑问”。

良品率可不是什么虚的指标，它直接决定了一款芯片的成本，良品率越高则成本越低，才是最终追求的目标。

我查过一些数据，先进光刻机的良品率普遍要达到90%以上才算有竞争力。

如果我们只能做到50%、60%，哪怕做出来了，成本也会高得离谱，根本没办法商业化。

这其实点出了中国高科技的一个典型现象：我们能突破“从无到有”，但“从有到好用”、从“实验室”到“生产线”，往往还有很长一段路。

这不是光砸钱就能解决的，它需要工艺迭代、工程师经验、产业链配合，甚至需要一点时间带来的“手感”。

有人说我们起步晚，确实。

ASML搞EUV光刻机用了二十年、砸了数百亿美元，我们想用几年就追平，不现实。

但我觉得吧，中国市场本身就是一个巨大的试验场和应用场。

我们有终端需求、有政策推动、也有被逼出来的自主研发决心。

华为遭遇制裁之后反而在芯片领域加速突破，就是很好的例子。

所以杨光磊这话，看似保守，其实挺中肯。

我们能做8nm，代表技术路线通了；良品率不高，说明工程化还在爬坡。

这条路没有捷径，只能靠不断调试、不断优化、交学费、熬时间。

但从另一个角度看，台积电、三星也不是一生下来就会跑。

他们也是从低良品率走过来的。

中国有市场、有人才、有制造底蕴，如果真能沉下心来把工艺吃透，良品率问题迟早能解决。

光刻机这场仗，是持久战，也是必争之战。

我们可以谨慎，但不必悲观。