北京
金融界2025年8月21日消息，国家知识产权局信息显示，昆山彰盛奈米科技有限公司取得一项名为“一种化学气相沉积CVD反应腔”的专利，授权公告号CN223240158U，申请日期为2024年08月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种化学气相沉积CVD反应腔，涉及微型风扇定子涂层制备技术领域，包括支撑台和密封组件，所述支撑台下表面安装有支撑架，且支撑台上表面安装有反应腔室，所述密封组件设置于支撑台表面，且密封组件包括下连接板、定位孔、环状密封槽、密封环、密封盖体、上连接板、定位杆和固定环，所述下连接板设置于反应腔室上端两侧，且下连接板表面开设有定位孔，所述反应腔室上表面开设有环状密封槽。该化学气相沉积CVD反应腔，通过密封组件使得该装置可对反应腔室进行密封，且密封性强不易发生泄漏现象，通过加热组件使得该装置可在持续加热的过程中对反应腔室进行散热，防止反应腔室热量过高而造成损坏。
天眼查资料显示，昆山彰盛奈米科技有限公司，成立于2003年，位于苏州市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本480万人民币。通过天眼查大数据分析，昆山彰盛奈米科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息41条，此外企业还拥有行政许可2个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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