北京
金融界2025年8月19日消息，国家知识产权局信息显示，昆山彰盛奈米科技有限公司取得一项名为“一种CVD沉积炉装置”的专利，授权公告号CN223240161U，申请日期为2024年08月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种CVD沉积炉装置，涉及钢瓶内表面涂层技术领域，包括反应室和均热组件，所述反应室的下端设置有射频电源器，用于钢瓶加热均匀以便沉积的所述均热组件设置于反应室的内部，且均热组件包括旋转盘、限位架、安装槽、加热丝、支撑架和电动推杆，所述旋转盘上方的两侧设置有限位架，且限位架的表面开设有安装槽。该一种CVD沉积炉装置通过旋转盘用于钢瓶的底部支托的同时在电机的驱动下带动钢瓶运输转动，使得钢瓶内表面加热丝的加热下受热均匀，以便后续的沉积处理，限位架在钢瓶瓶身侧边起到辅助限位的作用，避免钢瓶的倾倒，安装槽为加热丝提供安装空间，加热丝对钢瓶加热，使其内壁更好的进行沉积反应成膜。
天眼查资料显示，昆山彰盛奈米科技有限公司，成立于2003年，位于苏州市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本480万人民币。通过天眼查大数据分析，昆山彰盛奈米科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息41条，此外企业还拥有行政许可2个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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