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金融界2025年8月18日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“针对斜边相邻短临边的OPC预处理方法及系统、OPC修正方法”的专利，公开号CN120491393A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明提供一种针对斜边相邻短临边的OPC预处理方法及系统、OPC修正方法中，针对斜边相邻短临边的OPC预处理方法包括：获取待处理图形，待处理图形至少包括斜边以及与斜边相连的短临边，其中，短临边的尺寸小于预设分段尺寸；基于短临边的尺寸以及预设分段尺寸，在与短临边的另一端相连的非斜临边上定位一截取点；在斜边上与截取点相对应的位置，形成与短临边的延长线相连的线端；基于线端，对待处理图形进行逻辑运算，以得到目标图形。如此配置，通过在斜边上形成与短临边的延长线相连的线端，能够避免侵占短临边的修正空间，最终的仿真图形与目标图形之间的差异可以进一步减小，有效提升了OPC修正效果。
本文源自：金融界
作者：情报员
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