跳槽泄露技术机密：要求赔偿 9999 万

2025 年 8 月 13 日，北京屹唐半导体科技股份有限公司发布《提起诉讼的公告》。

原告：北京屹唐半导体科技股份有限公司

被告：应用材料公司（APPLIED MATERIALS, INC.）

诉讼请求：

1、判令被告停止以教唆、引诱、帮助他人违反保密义务或者违反有关保守技术秘密要求的方式， 继续获取原告的技术秘密， 并在原告监督下销毁被告已经持有或控制的载有涉案技术秘密的技术资料载体；

2、判令被告停止以申请专利、发表论文等任何方式披露原告的技术秘密，并以公告和/或内部通知的形式，通知公司股东、高级管理人员、有关员工、关联公司及可能获知涉案技术秘密的上下游厂商等配合履行停止披露的要求，且与他们签署保守涉案技术秘密及不侵权承诺书；

3、判令被告停止使用、允许他人使用原告技术秘密。即于判决生效之日起禁止被告在中国境内制造和/或委托他人制造使用原告技术秘密的产品、禁止被告销售使用该技术秘密所直接获得的产品，并销毁作为涉案技术秘密载体的全部侵权产品；

4、确认被告申请的中国专利的申请权归属于原告，判令被告不得擅自处分该专利申请， 并于判决生效之日起三个月内办理完毕该专利申请的变更手续， 且承担变更所产生的全部费用；

5、 判令被告赔偿原告经济损失以及制止侵权的各项合理支出 （适用 3 倍的惩罚性赔偿）合计 99,990,000 元；

6、判令被告承担本案诉讼费用。

事实及理由：

利用高浓度、稳定均匀的等离子体进行晶圆表面处理是屹唐半导体的关键技术之一，相关技术被广泛应用于屹唐半导体的干法去胶、干法蚀刻、表面处理及改性等半导体加工设备中。

屹唐半导体在该领域具备领先的原创性技术能力，并拥有相关技术秘密。

被告应用材料公司招聘了曾在原告全资子公司 Mattson Technology, Inc.（以下简称“MTI 公司”）工作的两名涉案员工。

该两名员工了解公司关于等离子体的产生和处理方法的核心技术，熟悉和掌握相关设备结构以及技术工艺。

在 MTI 公司任职期间，该两员工均签署了保密协议，对包括涉案技术秘密在内的技术信息承担严格的保密义务。

证据显示，应用材料公司招聘该两名员工入职后，向中国国家知识产权局提交了一份发明专利申请，其中主要发明人即为前述两名员工，该专利申请披露了原告与 MTI 公司共同所有的涉案技术秘密。

被告非法获取和使用原告的技术秘密，并在中国境内以申请专利的方式披露了该技术秘密，将该专利申请权据为己有，违反了 《中华人民共和国反不正当竞争法》 的规定，构成侵犯商业秘密的行为，对原告的知识产权和经济利益造成严重的损害。

经查，被告涉嫌实行将使用涉案技术秘密的产品向中国境内的客户进行推广销售的行为，进一步造成了对原告商业秘密权益的侵害。