北京
金融界2025年8月14日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司申请一项名为“一种进气结构和半导体的工艺设备”的专利，公开号CN120464986A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明公开了一种进气结构和半导体的工艺设备。该进气结构包括：第一匀气盘，对应第一进气口，用于通入第一气体；第二匀气盘，位于所述第一匀气盘的下方，对应第二进气口，用于第二气体；以及运动机构，连接所述第一匀气盘和/或所述第二匀气盘，至少调节所述第一匀气盘和/或所述第二匀气盘的位姿，以调节所述第一气体和/或所述第二气体的进气流场。通过上述进气结构，能够多角度地灵活调节反应腔内工艺气体的进气流场，解除了传统进气结构对于进气流场的固定化限制，从而满足了多种工艺类型对于进气流场的不同需求，并减少了重新设计进气结构的时间和成本。
天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目22次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息289条，此外企业还拥有行政许可29个。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
