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金融界2025年7月29日消息，国家知识产权局信息显示，武汉正源高理光学有限公司申请一项名为“一种反射式金属码盘的制作方法”的专利，公开号CN120386146A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本发明提供了一种反射式金属码盘的制作方法，通过在不锈钢基材的表面依次镀第一层铬膜、介质膜和低反射膜，再通过匀胶曝光显影刻蚀的工艺，去除表面不需要保留的低反射膜，从而在其表面形成反射率大于90%的高反射区域以及反射率小于1%的低反射区域，最后切割得到反射式金属码盘。
天眼查资料显示，武汉正源高理光学有限公司，成立于2009年，位于武汉市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉正源高理光学有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目7次，专利信息71条，此外企业还拥有行政许可12个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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