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金融界2025年7月23日消息，国家知识产权局信息显示，武汉华秦激光科技有限责任公司申请一项名为“双镜输出横向多焦点光斑的光学系统”的专利，公开号CN120347372A，申请日期为2024年03月。
专利摘要显示，本申请公开了一种双镜输出横向多焦点光斑的光学系统，属于激光加工技术领域。本申请包括沿光路依次布置的聚焦单元和定位单元；聚焦单元用于聚焦入射光，并将聚焦后的入射光投射到定位单元；定位单元为非球面反射镜，用于将射入光斑反射分裂成横向多焦点光斑；基于不同光斑的能量占比对所述反射镜进行分区，基于不同光斑焦点的横向偏移距离确定横向偏移相位，在所述反射镜的不同分区叠加对应光斑的横向偏移相位，得到所述非球面反射镜。本申请以较少的光学元件、精简的光路结构，实现输出横向多焦点分布光斑，适应于实际加工中不同场景的需求。
天眼查资料显示，武汉华秦激光科技有限责任公司，成立于2023年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华秦激光科技有限责任公司专利信息4条，此外企业还拥有行政许可1个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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