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金融界2025年7月22日消息，国家知识产权局信息显示，上海盛剑微电子有限公司申请一项名为“银蚀刻液组合物及其制备方法和应用”的专利，公开号CN120350379A，申请日期为2025年06月。
专利摘要显示，本发明公开了一种银蚀刻液组合物及其制备方法和应用，涉及蚀刻材料技术领域。按照质量百分数计，包括：磷酸30wt%~40wt%；硫酸1wt%~5wt%；1‑萘磺酸1wt%~5wt%；缓蚀剂0.1wt%~5wt%；6‑氯‑3，5‑二甲基吡嗪‑2‑甲酰胺0.1wt%~5wt%，余量为水。通过上述各原料的配合，使得本发明提供的银蚀刻液组合物在蚀刻过程中蚀刻性能更稳定，获得的产品图案蚀刻完全、无银残留、无过刻蚀及刻蚀不均匀等问题，同时银的蚀刻速率在使用寿命期间较为稳定。
天眼查资料显示，上海盛剑微电子有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海盛剑微电子有限公司参与招投标项目1次，专利信息39条，此外企业还拥有行政许可7个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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