北京
金融界2025年7月18日消息，国家知识产权局信息显示，上海利方达真空技术有限公司申请一项名为“一种新型谐振腔微波等离子体金刚石沉积装置”的专利，公开号CN120330677A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明涉及一种新型谐振腔微波等离子体金刚石沉积装置，该一种新型谐振腔微波等离子体金刚石沉积装置，包括腔体，还包括多个进气口、多个测温观察窗口、多个水平观察窗口、石英玻璃环、水冷台、钼基片台、等离子体、天线、微波馈入端口和多个排气口，所述腔体的顶部中心壁面为朝向腔体内部凸出的曲面，通过独特的谐振腔腔体形状将腔体内微波集中反射到基片台上方，并产生谐振，激发的适合金刚石生长的等离子体区域直径不小于4英寸，基片台金刚石片生长区域中心最高温度与其边缘温度差小，等离子体火球接近圆饼形，该装置在≥9kW的输入功率下，腔体内钼基片台正上方的金刚石生长区等离子体集中且均匀。
天眼查资料显示，上海利方达真空技术有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海利方达真空技术有限公司参与招投标项目2次，专利信息21条，此外企业还拥有行政许可2个。
本文源自金融界
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