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昨天，ASML Holding NV （ASML） 公布了 2025 年第二季度业绩。
第二季度总净销售额为 77 亿欧元，毛利率为 53.7%，净收入为 23 亿欧元
第二季度季度净预订量为 55 亿欧元，其中 23 亿欧元来自EUV光刻机。
ASML 预计 2025 年第三季度的总净销售额在 74 亿至 79 亿欧元之间，毛利率在 50% 至 52% 之间。
ASML 预计 2025 年全年总净销售额将比 2024 年增长约 15%，毛利率约为 52%。
ASML总裁兼首席执行官傅恪礼（Christophe Fouquet）表示：“我们2025年第二季度的净销售额为77亿欧元，处于此前营收预测区间的高位；毛利率为53.7%，高于预期，这主要得益于装机售后业务中升级服务的增长，以及非经常性的一次性费用带来的成本下降。”
傅恪礼说：“我们看到光刻机投资在晶圆厂总体投资中所占的比重持续保持强劲，尤其是在DRAM（动态随机存取存储器）领域，而TWINSCAN NXE:3800E的推出也进一步巩固了这一趋势。与此同时，EUV光刻机的应用正在按计划推进，其中包括高数值孔径（High NA）系统。本季度，我们发运了首台TWINSCAN EXE:5200B系统。”
傅恪礼表示：“展望 2026 年，我们看到 AI 客户的基本面仍然强劲。与此同时，我们继续看到宏观经济和地缘政治发展带来的不确定性增加。因此，虽然我们仍在为 2026 年的增长做准备，但现阶段我们无法确认。我们预计第三季度总净销售额在 74 亿至 79 亿欧元之间，毛利率在 50% 至 52% 之间。我们预计研发成本约为 12 亿欧元，SG&A 成本约为 3.1 亿欧元。对于 2025 年全年，我们预计总净销售额将增长 15%，毛利率将增长约 52%。”
TWINSCAN EXE:5200B核心特性与优势
TWINSCAN EXE:5200B 是第二款 0.55 数值孔径（即 “高数值孔径”）极紫外（EUV）光刻系统，同时也是 TWINSCAN EXE:5000 的继任者。该系统在提升套刻精度的同时，进一步提高了生产效率。
相较于 NXE 系列系统，EXE:5200B 的成像对比度提升 40%，分辨率达 8 纳米。这一性能使其能通过单次曝光实现比 TWINSCAN NXE 系列小 1.7 倍的特征尺寸，进而使晶体管密度达到后者的 2.9 倍。这有助于简化大规模生产中的工艺复杂度，提升客户晶圆厂的晶圆产出量。
EXE:5200B 生产效率的提升得益于改进的 EUV 光源。通过提高晶圆层面的功率输出，该系统能够更快地完成晶圆曝光，从而提高系统吞吐量。此外，EXE:5200B 还配备了经优化的投影光学元件 —— 这是与战略合作伙伴蔡司 SMT（ZEISS SMT）联合研发的成果。其设计与制造过程经过优化以减少像差，从而最大限度地提升成像质量和套刻性能。
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