北京
分享至
金融界2025年7月16日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“射频等离子体处理腔室中基于学习的调谐”的专利，公开号CN120322846A，申请日期为2023年01月。
专利摘要显示，一些实施例针对一种在等离子体处理系统中处理基板的方法。所述方法通常包括：调谐调谐电路的第一电容器和第二电容器以匹配与波形的第一阶段对应的第一阻抗，同时将射频(RF)发生器的频率预设为第一频率；调谐调谐电路的第三电容器和RF发生器的频率以匹配与波形的第二阶段对应的第二阻抗，其中RF发生器的频率被调谐到第二频率；记录与波形的不同阶段处的不同阻抗匹配的第一频率和第二频率的设定值；以及在第一频率与第二频率之间切换以匹配波形的不同阶段处的不同阻抗。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
