北京
金融界2025年7月7日消息，国家知识产权局信息显示，合肥京东方光能科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“光电元件及其制备方法”的专利，公开号CN120265088A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本公开提供一种光电元件及其制备方法，属于半导体技术领域。该光电元件的制备方法，包括在衬底基板的一侧依次形成第一电极层、第一传输层、钙钛矿层、第二传输层和第二电极层；所述光电元件的制备方法还包括形成第一介孔层；其中，形成第一介孔层包括：形成包括第一主聚合物和第一掺杂化合物的第一前驱膜，所述第一主聚合物的质量含量大于所述第一掺杂化合物的质量含量；采用第一洗脱剂去除至少部分所述第一掺杂化合物，所述第一主聚合物在所述第一洗脱剂中的溶解度小于所述第一掺杂化合物在所述第一洗脱剂中的溶解度。
天眼查资料显示，合肥京东方光能科技有限公司，成立于2024年，位于合肥市，是一家以从事电力、热力生产和供应业为主的企业。企业注册资本59910万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥京东方光能科技有限公司参与招投标项目29次，专利信息1条，此外企业还拥有行政许可2个。
京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3764501.6203万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了71家企业，参与招投标项目256次，财产线索方面有商标信息776条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可48个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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