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2023年末，ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机，型号为TWINSCAN EXE:5000的系统。业界普遍认为，High-NA EUV光刻技术将在先进芯片开发和下一代处理器的生产中发挥关键作用。不过这种情况最近似乎发生了变化，各个晶圆代工厂都在减少对High-NA EUV依赖，并且延后引入新技术的时间。特别是最近来自英特尔董事的发言，让市场对High-NA EUV的前景产生了更多的疑问。
据Wccftech报道，近期有投资机构开始下调了ASML的目标股价，从每股795欧元降至759欧元，意味着每股收益将减少大概5%，原因就是High-NA EUV需求放缓，同时也调低了ASML在2026年和2027年的收益预期。不过对ASML股票的评级并没有改变，仍坚持“买入”评价。
按照那位不愿意透露姓名的英特尔董事的说法，新的晶体管设计，比如如GAAFET和CFET，可以降低光刻机在芯片制造过程中的重要性。这些设计是从四面“包裹”栅极，芯片制造商将更多地关注通过蚀刻来去除多余材料，而不是增加晶圆在光刻机上花费的时间来减小特征尺寸。随着芯片制造中横向方向的重要性日益增加，High-NA EUV的重要性相比于EUV就没那么重要了。
从长远来看，人工智能（AI）浪潮带动了芯片产业的发展，投资机构对ASML产品的长期需求仍保持乐观，因为这些芯片普遍采用最新的半导体制造技术，市场对光刻设备的需求仍处于上升趋势。
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