由于北美尖端光刻机需求下降 美国银行下调ASML目标价

由于市场对光刻设备制造商阿斯麦（ASML）最新高数值孔径极紫外（EUV）光刻机的需求放缓，美国银行今日下调了该公司的股价。阿斯麦是全球领先的芯片设备制造商，美国银行将其目标股价从之前的795欧元下调至759欧元，同时还下调了阿斯麦2026年和2027年的每股收益预期。

激光照射 ASML TWINSCAN NXE:3400 设备内的锡滴，在设备光源内产生极紫外 (EUV) 光。图片：ASML

美银下调 ASML 股价目标之前，英特尔一位高管上个月曾发表评论，暗示光刻技术在尖端芯片制造中的重要性正在下降。光刻是芯片制造的第一步，芯片制造商将设计转移到晶圆上，以生产数十亿个晶体管。这也是最重要的一步，因为光刻机的分辨率决定了最终要打印的电路尺寸。

最新的芯片制造技术依赖于先进的晶体管设计，这种设计旨在垂直而非水平地添加更多层。更新的设计法则降低了分辨率在芯片制造中的重要性，对于 ASML 而言，这意味着该公司最新的高数值孔径 EUV 设备对于尖端芯片制造技术的重要性可能不如之前的 EUV 设备对于 7 纳米及以下节点的重要性。

美国银行似乎也认同高数值孔径EUV光刻机的重要性降低的观点，并基于多项假设下调了ASML的目标股价。这些假设包括更广泛的市场不确定性、高NA需求下降以及英特尔的生产问题。

ASML EUV 机器大约有一辆公共汽车那么大

美国银行表示，ASML 的预期企业价值与营业收入比率为 19.6，尽管低于历史水平 22，但仍颇具吸引力。该比率影响了该行的股票评级，尽管将股价从 795 欧元下调至 759 欧元，但该行在最新报告中仍维持“买入”评级。下调目标股价是基于较低的预期盈利预测，因为美国银行目前预计 ASML 的每股收益将下降 5%。

较低的 EPS 估计是基于对最新高数值孔径EUV光刻机机的需求放缓、三星难以获得 NVIDIA 的内存产品批准、英特尔的生产困境（尚未开始其最新 18A 芯片制造技术的大规模生产）以及美国对中国芯片制造设备实施额外限制的持续威胁。

影响美国银行对高数值孔径EUV光刻机看跌情绪的一个特殊因素是，内存芯片制造商SK海力士依赖垂直设计而非水平设计的3D内存芯片。美国银行还预计，ASML将在2026年出货四台，出货量将下降50%。

然而，对全球AI芯片市场的乐观情绪使该行对ASML产品的长期需求保持乐观。美银认为，到2030年，AI芯片的需求可能达到7950亿美元，这将增加对光刻设备的需求，尤其是考虑到AI芯片通常采用最新技术制造，且对功率和性能有着严格的要求。