北京
金融界2025年7月1日消息，国家知识产权局信息显示，华为技术有限公司申请一项名为“薄膜沉积装置、薄膜沉积方法及基层”的专利，公开号CN120231009A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本申请提供了一种薄膜沉积装置、薄膜沉积方法与基层。薄膜沉积装置包括壳体、气化组件、反应室与氧气供给组件，壳体包括围成容置空间的底板、顶板与侧板。气化组件与反应室均设置于容置空间内，反应室与部分顶板围成腔体，腔体内设置基板，氧气供给组件向腔体提供氧气。反应室具有闸板，闸板打开使得腔体与容置空间连通，容置空间内的原材料气体进入腔体内，且原材料气体封闭于腔体内，氧气供给组件为腔体提供氧气。本申请的薄膜沉积装置设有反应室，在将过渡层氧化形成氧化层时反应室封闭，使得氧气不会泄漏到容置空间内，避免了原材料气体在壳体的内壁上形成氧化膜导致的气化组件内的原材料被污染的情况，有利于提高形成的氧化层的质量。
天眼查资料显示，华为技术有限公司，成立于1987年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本4104113.182万人民币。通过天眼查大数据分析，华为技术有限公司共对外投资了52家企业，参与招投标项目5000次，财产线索方面有商标信息5000条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可1509个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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