打破垄断，彤程新材，全国唯一！

半导体，景气度上行！

行业数据显示，我国300mm晶圆厂建设数量预计从2024年的39座增加到2027年的122座，占2027年全球晶圆厂总量的29.71%。

伴随国内晶圆厂建设加速，产业链上游的半导体材料领域也迎来国产替代新机遇。

尤其是在技术壁垒较高的光刻胶市场，南大光电、鼎龙股份、彤程新材、上海新阳、徐州博康等龙头企业正加速技术攻关和量产，带领国产光刻胶一步步打破国际垄断。

其中，彤程新材更是凭借在技术和客户上的先发优势，成为国内唯一一家除EUV光刻胶外，实现全品类光刻胶布局的上市公司，在美、日企业高度垄断的市场杀出一条血路！

高端光刻胶先行者

盈利能力行业第一

半导体领域，光刻机的技术壁垒最高已经是人尽皆知的事实。截至目前，全球也只有荷兰ASML有生产高端EUV极紫外光刻机的能力。

而光刻胶作为一种对光敏感的精密感光涂料，在特定波长光的照射下，能够在硅片上刻画出纳米级精度的电路图案，从而辅助芯片生产，是光刻工艺中必不可少的核心材料。

按照曝光光源的不同，半导体光刻胶可分为g线、i线、KrF、ArF和EUV五大类，从前往后技术含量逐级增高，国产化率却逐级降低。

尤其是在应用制程最为成熟的KrF、ArF高端光刻胶领域，国产化率仅分别约10%、2%。

针对7nm及以下先进制程的EUV光刻胶，国内更是只有彤程新材、上海新阳处在实验室阶段，国产化率几乎为0。

在此背景下，哪家公司的光刻胶布局最全面、最高端，谁就能优先抢占光刻胶国产替代释放出的巨大红利。

于是，具备g/i线、KrF、ArF多品类光刻胶布局的彤程新材、徐州博康（未上市）的含金量上升。

虽然鼎龙股份也是国内研发能力较强的半导体材料企业，但其主营业务以CMP抛光垫为主，光刻胶领域仅在KrF光刻胶和浸没式ArF光刻胶等几个高端品种有布局，产品覆盖度不如徐州博康、彤程新材。

截至目前，徐州博康已经具备了干法ArF及湿法ArF光刻胶的生产能力，最高可应用于28nm芯片制造。

而彤程新材的i线、KrF光刻胶产品在2024年更是实现大规模放量，营收同比分别增长61%、69%；ArF光刻胶成功突破110nm分辨率，并已通过客户验证、陆续量产。

在全系列产品的助力下，彤程新材的客户拓展非常顺利，市场渗透力堪称“教科书级别”！

2021年-2024年，公司8英寸晶圆客户从17家增长至29家，12英寸晶圆客户也从13家扩张到34家。

客户阵容庞大且优质，国内知名晶圆厂中芯国际、长江存储、华虹半导体等都跟公司有合作。

除此之外，对比同行，彤程新材更为亮眼的是它的盈利能力。

ROE（净资产收益率）作为衡量公司盈利能力的综合型指标，在资本市场中被广泛应用。

通常认为，企业的平均ROE与其未来10年平均回报率基本成正比。而近五年彤程新材的ROE基本保持在10%以上的较高水平，2024年更是直接突破15%。

这样稳定且整体上升的ROE不仅碾压南大光电、晶瑞电材、上海新阳、鼎龙股份等同行，甚至在整个半导体领域都是不多见的。

可见，彤程新材已经成功做到了技术、盈利“两手都要抓，两手都要硬”，与徐州博康净利润连年亏损的状态更是形成鲜明对比。

横纵双向衍生

打造业内唯一全平台龙头

2024年，彤程新材实现营业收入32.7亿，同比增长11.1%；净利润高达5.17亿，同比增长27.1%，成为继鼎龙股份之后，国内光刻胶领域第二个年营收破30亿的企业。

如此优秀成绩的取得自然不是一朝一夕造就的，多年来，彤程新材持续通过横纵双向衍生，将自己打造成了业内唯一的全平台光刻胶龙头。

1. 纵向：向上游原材料端延伸。

彤程新材的“老本行”其实是特种橡胶助剂，这是一种推动轮胎工业工艺技术变革的创新性材料。

公司是全球最大的轮胎用特种材料供应商，下游客户覆盖普利司通、米其林、固特异、马牌、倍耐力等国际知名品牌。

2024年，在全球汽车产业链加速复苏的背景下，彤程新材特种橡胶助剂产品营收突破24亿，占公司全部营收的比重高达73.5%，同比继续保持正增长。

那，这与彤程新材的光刻胶业务又有什么联系呢？

关键就在原材料共性技术的迁移上。

橡胶助剂生产中所用到的高纯度化学合成与杂质控制技术、蒸馏工艺等是生产树脂、溶剂的绝佳技术，而树脂、溶剂又是生产光刻胶的主要原材料。

彤程新材利用橡胶业务中甲酚甲醛树脂精制技术成功开发的光刻胶树脂，金杂控制水平能达到PPB级；2024年公司高纯配套试剂EBR G5也正式量产，彤程新材成为国内唯一能量产该试剂的企业。

此外，PSPI是生产光刻胶的新型材料，具有感光性好、热稳定性好、机械性能好等特点。随着集成电路对光刻胶分辨率要求的提高，未来PSPI材料的渗透率或将达到30%。

而彤程新材的5μm级PSPI已完成长电科技验证，实现小批量供货，领先同行。

1. 横向：拓展抛光垫新品。

抛光垫也是晶圆制造领域的核心耗材，其基本原理就是通过机械研磨或化学反应，去除晶圆表面的不平整，生产工艺与光刻胶有异曲同工之处，但毛利率最高能达到80%。

彤程新材通过复用光刻胶技术，其在研抛光垫性能足以对标国际竞品。在国内抛光垫国产化率不足5%的背景下，公司抛光垫业务预计能有较大的利润发展空间。

至此，通过横纵双向延伸，彤程新材得以更好的控制成本、打破国际原材料垄断以及拓展新的成长曲线，进一步提升了其光刻胶产品的市场竞争力。

总结

面对我国高端光刻胶国产化率较低的现状，国内各个光刻胶厂铆足精神、力图破局，尤其是彤程新材凭借全品类产品优势、行业领先的盈利优势成功脱颖而出。

目前，彤程新材也在通过横纵双向拓展的方式，全方位加强其在光刻胶产业链上的领先优势，未来或将成为光刻胶国产替代的中坚力量！